台積電洩密案起訴 檢最重求刑14年

台積電近日爆發疑似技術外洩事件，多名前員工涉嫌在任職期間違規取得全球最先進的2奈米晶片製程技術，台灣高等檢察署智慧財產檢察分署27日偵結，依據《營業祕密法》、《國家安全法》等罪嫌起訴三人，最重被求刑14年，最輕則被求刑7年。

檢方指出，陳姓被告曾擔任台積電12廠之良率部門工程師，離職後到東京威力公司行銷部門任職，但卻多次運用與台積電在職員工（戈姓、吳姓、廖姓等人）舊誼，央請對方提供業務上可接觸到的台積電國家核心關鍵技術營業祕密檔案或營業祕密，以供他拍攝重製，以利東京威力公司檢討改善蝕刻機台表現，爭取台積電2奈米製程蝕刻站點供應量產機台之資格。

檢方強調，本案事涉我國產業命脈之國家核心關鍵技術，嚴重威脅半導體產業國際競爭力，被告3人犯罪情節重大，請求從重量刑。陳姓被告涉犯《營業祕密法》的意圖域外使用而竊取營業祕密罪量處有期徒刑5年、《營業祕密法》竊取營業祕密罪量處有期徒刑3年、《國家安全法》國家核心關鍵技術營業祕密之域外使用罪各量處有期徒刑8年，應執行有期徒刑14年。

檢方繼續表示，吳姓被告涉犯《營業祕密法》量處有期徒刑4年、《國家安全法》有期徒刑7年，應執行有期徒刑9年；戈姓被告涉犯《國家安全法》量處有期徒刑7年。◇