中山大學「超臨界流體技術」 助攻半導體突破良率瓶頸

國立中山大學物理系講座教授張鼎張獨創「超臨界流體低溫缺陷鈍化技術」，師生團隊成立奈盾科技（Naidun-tech）公司，助攻半導體新技術突破良率瓶頸，不僅獲得科技部價創計畫補助，更吸引日本第一大半導體設備商東京威力（TEL）與台灣友達（AUO）青睞，成為東京威力在臺灣唯一投資的新創公司。   

什麼是超臨界流體？張鼎張指出，一般固體吸熱變液體，液體加熱變氣體，氣體再加壓超過臨界溫度及臨界壓力時，物質將兼具液體與氣體特性，就是超臨界流體。超臨界流體有較好的滲透性和較強的溶解力，廣泛應用於萃取技術中，將其作為萃取劑，析出原料中某些成分，常見包括萃取咖啡因，製造保養品、營養補充品與清潔劑等。 

張鼎張強調，「我們團隊反其道而行，利用超臨界流體導入新物質。」在半導體尺寸微縮的趨勢下，長完膜、蝕刻後，可能會有很多缺陷，舊有技術無法提供好的解決方案，超臨界流體既像氣體又像液體，具高反應性、高滲透性、低表面張力等三大優勢，運用在電子元件上可有效消除缺陷，讓元件性能與可靠度大幅提升。   

他表示，超臨界流體低溫缺陷鈍化技術很特別，透過這項技術可修補半導體材料內的斷鍵，讓不好的元件回到正常特性，改善漏電及導通電流，滿足舊有製程無法滿足的需求，且對鰭式場效電晶體（FinFET）、LED、光電元件甚至對第三代半導體都有效。   

他說，「成立公司，那是個意外！」團隊在這個領域持續投入15年時間，在科學探索的過程中也挖掘出工程應用的潛力，目前測試很多公司提供的樣本都有效果，才看見技術產業化的曙光。「這是一個很好的契機，代表我們研究方向獲得認同。」 ◇