陸稱突破EUV技術 專家：多是假的
近期，在中國關於曝光機（中國稱光刻機）的新聞又多了起來，諸如「國產EUV（極紫外光）光刻機有重大突破！」「EUV光刻機實質突破！」等標題，然而仔細分析這些新聞，可發現它們基本上把仍處於理論或實驗室階段的東西誇大其詞。
曝光機是製造積體電路的關鍵設備。迄今為止，荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）是全球唯一的EUV曝光機製造商。美國政府一直在聯合日本、荷蘭等盟友，確保先進的曝光機不會落到中共手裡。
專家表示，發展EUV曝光機不僅需要自由穩定的制度環境，而且需要工匠精神。在目前中共制度下，只會產生大量貪腐，任何人都沒有真正的安全，留不住真正高端人才。
中國試圖研發EUV光源技術
曝光機主要由光源、透鏡及機台三大部分組成，光源部分尤其關鍵。目前曝光機雷射光源主流是ASML採用的LPP（雷射產生電漿）方案，該方案已被充分驗證，現有EUV光源都是LPP。
中國的LPP方案主要由「上海光機所」主導，該所挖來荷蘭ASML研發部光源技術負責人林楠，並建立雷射驅動等離子體極紫外光源（LPP-EUV）實驗平台，其實現的結果被認為「處於國際靠前、國內領先水平」。
中國研發的EUV光源技術還有其他技術路徑，比如哈爾濱工業大學的放電等離子體極紫外光源（DPP），這種方案被認為有能量轉換效率高、造價較低、體積較小、技術難度較低等優勢；但業內人士表示，當年光源製造商西盟科技（Cymer，後被ASML併購）因無法提升功率，只能放棄DPP轉向LPP。除此之外，還有廣東智能機器研究院與華中科技大學，以及由清華大學嘗試開發的光源技術。
中國開發的幾種光源路線，先後被陸媒吹捧為「重大突破」、「實質突破」，聽起來好像中國國產EUV已經指日可待了。事實上，從ASML發展的經驗來看，僅完成EUV光源的可行性論證，ASML就花了3年，後又花了15年才完成13.5奈米EUV光源的實用工程化。
ASML執行長福克（Christophe Fouquet）在今年4月曾表示，「產生一些EUV光是可能的，但中國要製造出EUV機器還需要很多很多年。」
中國要達ASML水準少需20年
對於陸媒稱中國在EUV領域獲得突破，曾任台積電採購處經理的薛宗智對《大紀元》表示，「絕大部分都是假的」，如果它真的做出來，是不會想要讓外人知道的，「因為你讓人家知道，人家就管制你，等於是自殺嘛！何必呢？」
曾任台積電採購處經理的薛宗智。（薛宗智提供）薛宗智表示，中國要做到ASML水準至少需要20年。中國現在做出來的，其實是實驗室裡人為控制，純粹只是為了驗證是否可行，可以用很大的設備、不計成本，只求做出一次成功。但從實驗室到可以量產，有時候20年都做不到。
工研院政策與區域研究組組長李冠樺也表示，根據陸媒新聞來看，其實都還是實驗室的產物，離商業化還有很長的路要走。EUV光源的確是一個關鍵，但EUV龐大的機器，還包含透鏡、整個系統的協調。
台灣工研院政策與區域研究組組長李冠樺。（李冠樺提供）台大電機系教授林宗男對《大紀元》表示，以光源的功率而言，ASML最頂級有600瓦，哈工大的功率大概不到100瓦，差距很大，還無法用在實際製造。
美國智庫「安全與新興技術中心」（CSET）7月發布的報告顯示，荷蘭仍然是光刻工具主要供應國（79%），其次是日本（17%）。從2019年到2024年，中國國產供應幾乎為零成長，僅上海微電子裝備公司（SMEE）在用於傳統晶片製造的I-line（365奈米）曝光機領域，在市場上占4%。
僅ASML有技術 製造EUV曝光機有多難？
EUV曝光機是生產全球最先進晶片所需的設備。薛宗智說，ASML的設計想法業界大概都知道，部分專利也早公開了，但其他國家也做不出來，「那個技術我自己以前負責過，技術太難了」。他舉例，假設中國把賓士買去，它不可能馬上做出賓士車子的水準，因為賓士、BMW這些車廠有百年磨下來的經驗。
薛宗智說，即使台積電把ASML買下來，台積電幾萬個R&D博士工程師也沒有辦法做。像光學折射有數萬種模型，哪種模型最適合用在哪一種製程？那都是要花幾兆數據資料庫才有辦法整合的，也許用AI（人工智慧）處理可以快一點，但如果沒有數據，就算有AI也沒辦法。全世界有數據的只有ASML。
荷蘭ASML公司是全球唯一可以生產極紫外光刻機（EUV）的公司，目前已知有三個型號的浸沒式深紫外光刻機（DUV）可能禁止出售給中國。圖為2018年4月17日ASML荷蘭總部實驗室。（Emmanuel Dunand / AFP）薛宗智認為，除了長期企業積累資料外，個人經驗與傳承也很關鍵。「人是最強的AI，尤其一些老師傅。以前我們去修車，老師傅只要聽一下就知道問題在哪裡」，可是AI沒辦法做到人用五感就可以去知道的狀況，它需要大量的數據。
他補充，美國也一樣，美國亞利桑那州的台積電工廠，仍要仰賴台積電大量台籍工程師過去，整個工作模式與大數據都移植過去，才做得出來。「這個東西稱為軟實力，中國過去太陽能面板或LED照明做得蠻不錯，那是因為門檻很低，但半導體這塊它就踢到石頭了。」
沒先進製程 光有設備也無法測試
薛宗智還提到另一個因素，即ASML的EUV是客戶共同開發的結果，而不是閉門造車。他表示，設備最需要的是客戶的回饋。就像做一個烤麵包機，如果跟很多麵包師傅合作，就知道他們在乎什麼，就會越做越棒。
薛宗智表示，中國就算真的有辦法做出EUV，但也找不到客戶願意測試，中國現在並沒有任何可以生產3奈米跟5奈米的晶圓廠。中芯國際現在也只有14奈米，所謂的7奈米都是假的，良率非常差，壽命非常短。
李冠樺也說，「先進光刻機不純粹只是在研發，還需要跟先進製程的製造商配合」，但非常不利的狀況是，中國沒有具有先進製程能力的廠商，它就沒辦法吸取製造上的經驗，進一步去優化光刻機。
中國市場追求速成 晶片業貪腐
業內人士指出，曝光機其實是一整套完整的奈米工業，要構建一台曝光機，整台機器所有零件、環節，全部都要達到奈米級精度。專家們都強調，曝光機這種微觀而巨大的工程，對人與社會制度都有非常高的要求。
林宗男表示，先進半導體的產業鏈涉及的領域非常廣，需要經驗的累積。所以如果沒有一個穩定自由的社會環境，就無法積累技術經驗，像中共這種制度也不太可能產生、累積高素質人才。
台灣大學電機系教授林宗男。（受訪者提供）李冠樺表示，曝光機是一個很精密的系統，需要像日本那種工匠精神，非常專注、嚴謹，品質要求非常高，每個環節都必須經過不停的重複、模擬，一步步形成最終成品。他認為，中國也有這樣的人才，但卻不容易在中國生存。
李冠樺說，中國常常講快速進入市場，在市場指標下，很多本來應該要慢工出細活、一步步扎根的事情，都被省略了。如果要花很長的時間就拿不到經費，所以就先騙到一筆錢，快速在市場實現，也就出現所謂晶片貪腐案。
國防安全研究院戰略與資源所所長蘇紫雲對《大紀元》表示，中共的國家積體電路產業投資基金（大基金）是一種有計畫性的貪腐，以晶片業的名頭，慷政府之慨，各個地方政府跟不肖人士也勾結，成立了一堆假的半導體公司騙補之後兩年就倒了。而且在中共一黨專政的情況之下，任何人都沒有真正的安全，所以留不住真正高端的人才。◇
國防安全研究院國防戰略與資源研究所長蘇紫雲。（記者鍾元／攝影）
