傳台積電2030才採用最新型EUV ASML高層來臺商討
艾司摩爾(ASML)首臺最新型「High-NA EUV」(高數值孔徑極紫外光微影系統)確定賣給英特爾,且在2025年被用來生產晶片。傳出台積電可能最快等到2030年才會使用「High-NA EUV」,不過似乎還沒定案;近日ASML現任商務長、下一任執行長兼總裁富凱(Christophe Fouquet)來臺拜訪台積電,雙方預計商討下世代機臺相關規劃。
據知名科技網站「Tom's Hardware」報導,英特爾已收到全球首臺「High-NA EUV」,並將以此發展18A後的節點(1.8奈米製程)。
或是成本考量
報導說,台積電似乎不急著在短時間內導入「High-NA EUV」,SemiAnalysis分析認為,使用該系統代表要投入更多成本,可能是台積電的主要考量之一。
報導說,英特爾思考的是不同的事,希望透過高數值孔徑EUV,領先台積電及三星,以確保戰略利益。台積電如果選擇晚英特爾4至5年才使用「High-NA EUV」,屆時如何保持技術領先,受到市場關注。
ASML下任CEO將來臺
台積電預計在本月18日舉辦法說會,富凱近日將率領高層來臺拜訪台積電與供應商。
富凱與台積電討論極紫外光設備的供應與下世代機臺等規劃,突顯雙方在先進製程持續緊密合作。
另外,台積電在日本熊本的首座廠房預計在今年投產,如今廠區已完工,據日媒共同社報導,台積電日本子公司JASM於2022年4月開始建設,辦公大樓部分區域在去年8月啟用,廠房則在去年底完工,已開始將生產設備搬入廠房。
據日本雅虎報導,台積電熊本廠建廠幾乎是24小時趕工狀態,工程僅花約1年8個月的時間,預計在今年2月24日舉行開幕儀式。◇