荷蘭限制晶片設備出口中國 學者：對中國越來越不利

荷蘭政府8日宣布關於關於先進晶片的新出口管制計畫，內容進一步限制生產成熟製程的深紫外光曝光機（DUV）出口中國，預計今年夏季實施。學者說，西方國家跟中國涇渭分明的態勢明顯，這對中國半導體發展越來越不利。

全球最大製造商艾司摩爾（ASML）所生產的極紫外光曝光機（EUV）與深紫外光曝光機（DUV）分別是半導體先進製程、成熟製程的關鍵設備。

艾司摩爾的世界最先進的極紫外光（EUV）設備已被禁止銷往中國，而在美國協商荷蘭政府下，儘管艾司摩爾態度上仍想將深紫外光曝光機出口中國，但如今已將受到限制。

綜合媒體報導，荷蘭政府終於同意對目前仍賣到中國的深紫外光曝光機（DUV）設限。

荷蘭對外貿易部長施萊納馬赫（Liesje Schreinemacher）8日接受「電訊報」（De Telegraaf）專訪指出，在與美國多次溝通，荷蘭立場與美國相同，都顧慮高階技術輸往中國帶來的風險，包括被應用在軍事用途，以及確保自身技術領先。

施萊納馬赫說，管制措施將在今年夏季前落實，並呼籲歐盟國家應採取與荷蘭一致政策，以展現歐盟的團體性。

不過，施萊納馬赫強調，新禁令下，還是有許多更低階的設備可以銷往中國，無需取得許可，包括製造汽車、冰箱、電話和風力發電機所需晶片的設備。

至於對艾司摩爾的影響，施萊納馬赫說，據了解，該公司訂單已很滿，特別是全世界都知道艾司摩爾的優勢，他們可以應付相關訂單。

艾司摩爾發聲明表示，相關DUV出口確實需要向荷蘭政府申請許可。他們說，對荷蘭政府許可政策的預期以及當前的市場情況，預計這些措施不會影響已發布2023 年財務前景或公佈的長期展望產生重大影響。

正巧的是，艾斯摩爾執行長溫寧克（Peter Wennink）在8日接受英國「金融時報」訪問表示，由於美中之間的科技角力，迫使中國竭力提振該國半導體產業，他們必須比以前花更大力氣，捍衛自家的智財權。

中華經濟研究院WTO及RTA中心副執行長顏慧欣接受大紀元時報採訪時指出，荷蘭確定進行出口管制，突顯的是配合美國政策這件事，這來自於美國施加的壓力與積極促成，最終才使荷蘭政府下這份決定。

顏慧欣說，艾司摩爾過去的立場是，想繼續維持跟中國之間的商業往來，但如今國際政經氛圍已轉變，各國重國家利益高於私人企業利益，西方國家跟中國涇渭分明的態勢明顯。

她說，中國接下來要面對的是，包括：荷蘭、西方國家與晶片四聯盟的擴大圍堵，限縮中國在市場上的競爭態勢，這對中國的先進半導體發展會越來越不利。這不完全代表中國會馬上一蹶不振，因為他們在成熟製程上仍有一席之地，還有自產的產能，國產率有一定的水準，相關發展仍需要關注。