美制裁上海微電 重創中共發展光刻機野心

美國商務部週四（12月15日）將36個中國科技企業和實體列入貿易黑名單，包括上海微電子裝備集團有限公司（以下簡稱上海微電）。因為上海微電是中共曝光機產業的龍頭，美方此舉將重創中國的曝光機產業，乃至晶片自給自足的野心。

美國商務部將長江存儲和上海微電等36個實體列入「實體清單」，美國公司和個人在與這些實體交易前，需要獲得美國政府的許可。新增的實體中有21個進一步受到「外國直接產品規則」（FDPR）的管制，即禁止外國公司向中國實體銷售採用美國技術或設備生產的商品，上海微電也在其中。

美方認為上海微電支持中共軍事現代化。美國還制裁了上海集成電路研發中心，該公司由上海市政府支持，致力於在不使用美國技術的情況下製造國產晶片。

上海微電今年首出貨

上海微電更廣為人知的名稱是SMEE，是中國唯一能生產製造半導體的微影設備的中國公司，在中共晶片自給自足計畫中占據重要地位。

中國目前無法製造先進晶片，例如用於最新智慧手機的晶片，主要是因為中國無法生產最先進的曝光機，而該領域目前由荷蘭艾斯摩爾控股（ASML Holding）主導。

雖然上海微電是中國唯一的曝光機製造商，但其設備只能生產90奈米的晶片，離尖端曝光機還很遠。

上海微電今年年初交付了首臺2.5至3度空間的封裝曝光機，但分析人士稱，封裝曝光機用於晶圓封裝，屬於晶片製造的後段工序；相比之下晶圓製造則是前端流程，需要更複雜的機器。

中國芯謀諮詢（ICwise）研究總監宋長庚此前對《南華早報》說，「我們目前卡在解析度40奈米以下的晶圓製造曝光機，目前還沒有取得明顯成果。」

臺灣Isaiah Research副總裁Lucy Chen今年2月對《南華早報》說：「如果中國想在半導體業達到一定程度的自力更生，中國設備供應商需要為代工廠開發微影工具，技術夠好才能與ASML、佳能（Canon）和尼康（Nikon）競爭。」

中國需要外國供應商協助

ASML生產的曝光機對於生產最先進晶片至關重要，也是全球唯一能夠供應7奈米及以下晶片所需的EUV（極紫外光）曝光機的廠商。美國最新制裁限制上海微電獲得先進技術和產品，使得該公司更難以提升曝光機生產水準。

在2021年的全球曝光機市場，ASML市占率達79.4%，尼康與佳能分別為10.4%和10.2%。由於美國的禁令，ASML從2018年就被禁止向中國出口EUV設備。中國公司憑藉目前能取得的DUV（深紫外光）設備，一步步推進半導體技術。

美國一直在遊說日本和荷蘭，收緊對中國出口用於製造半導體的設備。對中共晶片產業來說，荷蘭參與制裁毫無疑問是毀滅性的打擊，缺乏ASML等美國以外供應商的設備，中國晶片自給自足幾乎是不可能的任務。

研究機構伯恩斯坦（Bernstein）資料顯示，直到2021年為止，中國國產半導體設備最多只能滿足國內12%的需求，其餘都得依賴外國供應商。◇