荷商艾司摩爾控中企涉侵權

荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）警告，一家中國公司已開始銷售可能侵犯其智慧財產權的產品。此前艾司摩爾已指控相關公司竊取商業祕密。

據彭博社報導，全球最先進的晶片光刻機生產商艾司摩爾週三（2月9日）發布最新年度報告，其中提到其智慧財產權被盜問題。

報告說：「2021年初，我們獲悉有報導稱，一家與（美國加州）XTAL公司有關的公司正在中國積極銷售可能侵犯艾司摩爾智慧財產權的產品。2019年，艾司摩爾曾因這家公司竊取商業祕密而在美國獲得了損害賠償。」

2019年，一家美國法院裁決，XTAL竊取了艾司摩爾的商業祕密，XTAL必須賠償艾司摩爾8.45億美元的損失。

艾司摩爾所指的、與XTAL有關的公司是總部設於北京的東方晶源微電子科技有限公司（DJEL），該公司的業務已在名為「小巨人」的計畫中獲得中共政府批准。艾司摩爾已要求某些客戶不要援助該公司，並向中共當局表達該公司智慧財產權被盜的憂心。

艾司摩爾表示，該公司正「密切關注」此事，且「準備在適當的時候採取法律行動」。

「小巨人」是中共當局用來支持初創企業的計畫，旨在培養能夠與矽谷競爭的科技產業。「小巨人」的標籤對投資人和業者來說，意味著這些公司可以不受監管部門的處罰。

艾司摩爾在全球晶片供應鏈的地位舉足輕重，它壟斷了先進的極紫外（EUV）光刻系統，該系統是生產高階晶片不可或缺的設備。該公司還提供成熟製程所需的深紫外光（DUV）微影設備。

中共企圖在其國內打造先進晶片製造的生態系，以減少對外國進口的依賴，但仍然需要依靠艾司摩爾的光刻技術。《華爾街日報》曾經報導，分析師認為，目前如果沒有艾司摩爾的先進機器，中國的晶片製造商根本就無法製造出領先的晶片。據估計，中共還需至少十年才能達到艾司摩爾的技術水準。

儘管中共試圖取得艾司摩爾光刻機，但成果並不如預期。彭博社報導，據稱美國政府在2019年向荷蘭施壓，要求荷蘭不要讓艾司摩爾出售EUV系統給中共。時至今日，艾司摩爾仍未獲得向中共出口最先進機器的許可證。◇